Höchste Reinheit
Unsere Targets erfüllen hohe Reinheitsanforderungen. Die wichtigsten Vorteile: eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit der Schicht und eine minimale Partikelbildung während des PVD-Prozesses. Metallische und nichtmetallische Verunreinigungen im Sputtertarget übertragen sich auf die gesputterte Funktionsschicht und beeinträchtigen dadurch deren Funktion oder führen zur Partikelbildung im PVD-Prozess (Arcing-Effekt).
Wir garantieren eine Reinheit unserer Molybdän-Targets von mindestens 99,97 %. Die typische Reinheit unserer Molybdäntargets liegt dabei bei 99,99 %. So stellen wir sicher, dass die erzeugten Schichten den hohen Anforderungen gerecht werden.
Maximale Dichte und homogene Mikrostruktur
Durch spezielle Umformverfahren werden unsere Molybdän-Sputtertargets hoch verdichtet. Dies führt zu erhöhten Beschichtungsraten und verbesserten Schichteigenschaften im PVD-Beschichtungsprozess. Die Folge sind Vorteile in der Effizienz der Dünnschicht-Produktion sowie eine hohe Ausbringung.
Die Mikrostruktur des Beschichtungsmaterials können wir mit unserem Herstellverfahren gezielt einstellen. Mit einer gleichmäßig ausgebildeten Mikrostruktur der Sputtertargets erzielen Sie gleichmäßige Abtragsraten und Schichtdicken.
Kompetenzzentrum für neue Beschichtungslösungen
Im PVD-Prozess muss alles zusammenpassen. Nur wenn alle Prozessparameter perfekt aufeinander abgestimmt sind, entsteht die Schicht, die genau den Kundenanforderungen entspricht. In unserem PVD-Applikationslabor sputtern wir unter praxisnahen Bedingungen. Unser Entwicklerteam erzeugt hier Schichten und analysiert sie genau nach definierten Vorgaben. So entstehen in Kooperation mit Kunden und zahlreichen Entwicklungspartnern neue Beschichtungswerkstoffe bei kurzen Entwicklungszeiten. Durch langjährige Kontakte mit Anlagenherstellern und OEM´s beteiligen wir uns an neuesten Entwicklungen und Optimierungen
Breite Auswahl an Targetformaten